电光相位调制器

光电之家集齐了118个电光相位调制器产品以及7家厂商

电光相位调制器(EOPMs)是利用电光效应,根据外加电信号调节光信号相位的设备。下面列出了来自领先厂商的EOPMs产品。您可以通过筛选条件根据需求缩小产品范围。下载产品数据表并请求报价。

描述: 850 nm电光相位调制器,用于频率转移应用
射频半波(Vpi)电压:
3 to 4 V
电气回损:
-12 to -10 dB
射频输入功率:
33 dBm
射频输入阻抗:
50 Ohms
波动:
0.5 to 1 dB
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描述: 960 nm - 1100 nm, 电光相位调制器用于传感应用
RF半波(Vpi)电压:
2 to 3 V
电气回损:
-12 to -10 dB
RF输入功率:
33 dBm
RF输入阻抗:
50 Ω
工作带宽(-3dB):
10 GHz
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描述: 650 nm - 1000 nm, MgO:LiNbO3 电光相位调制器
频率响应:
0.4 to 150 MHz
谐振时阻抗:
50 Ohms
输入/输出阻抗:
50 Ohms
输入电压:
1 V
最大输出电压:
10 V
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描述: 705 nm光纤耦合电光相位调制器,适用于OCT应用
射频半波(Vpi)电压:
5 V
光谱带宽:
±20 nm
电压(Vpi):
5 V
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描述: 360 nm - 720 nm, 电光相位调制器,适用于光谱应用
射频输入功率:
13.7 dBm, 1 W
最大射频功率(无损坏):
1 W
所需射频功率@1rad:
13.7 dBm
共振频率:
81 MHz
电光(EO)带宽:
439 kHz
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描述: 3 MHz MgO:LiNbO3电光相位调制器,用于光谱应用
频率响应:
0.4到150 MHz
谐振阻抗:
50 欧姆
输入/输出阻抗:
50 欧姆
输入电压:
1 V
最大输出电压:
10 V
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描述: 635 nm 光纤耦合电光相位调制器,适用于光学相干断层扫描应用
射频半波(Vpi)电压:
5 V
光谱带宽:
±20 nm
电压(Vpi):
5 V
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描述: 900 nm电光相位调制器,适用于光谱展宽应用
射频半波电压:
3.5 to 4.5 V
电气回损:
-12 to -10 dB
射频输入功率:
28 dBm
射频输入阻抗:
50 Ohms
涟漪:
0.5 to 1 dB
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描述: 630 nm - 1200 nm,适用于光谱应用的电光相位调制器
射频输入功率:
18.2 dBm, 1 W
最大射频功率(无损坏):
1 W
预设频率:
50 MHz
所需射频功率@1rad:
18.2 dBm
谐振频率:
42.1至57.6 MHz
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描述: 1310nm相位调制器 10G
RF半波(Vpi)电压:
2.7到3 V
电气回损:
-12到-10 dB
RF输入功率:
28 dBm
RF输入阻抗:
50 Ohms
工作带宽(-3dB):
10到12 GHz
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电光相位调制器 (EOPMs) 是利用电光效应对光信号的相位进行调制的设备,以响应施加的电信号。电光效应,也称为波克尔斯效应,是指介质的折射率与施加电场强度成正比变化的现象。相位调制器是一种特定类型的光调制器,旨在控制激光束的光学相位。

图 1

关键组件

  • 电光晶体: 核心材料,其折射率对施加的电场变化作出反应。常见材料包括铌酸锂 (LiNbO3) 和钛酸钾 (KTP)。
  • 电极: 放置在晶体两侧的导电材料,用于施加电场。通常由金、铂或铝等金属制成。
  • 光波导: 位于电光晶体内部或表面的结构,限制和引导光线,确保与电场的有效交互。

电光相位调制器 (EOPMs) 的工作原理

电光相位调制器 (EOPMs) 基于电光效应工作。在 EOPM 中,电场沿电光晶体的一个主轴施加,通常通过并排放置在晶体两侧的电极来产生强且均匀的电场。光线沿与施加电场方向不同的主轴偏振进入晶体,导致晶体的折射率发生与电场强度成正比的变化。这种变化影响通过晶体的光的光程长度,导致光在离开晶体时发生相位偏移。相位偏移的程度与施加的电场强度直接相关。

用于块状相位调制的最常见配置是横向调制器,其中电光晶体位于平行电极之间。该安排允许产生大的电场,并在晶体内提供较长的交互长度,促进显著的相位偏移积累。EOPM 的关键组件包括电光晶体、电极和光波导,它们限制和引导光线,确保与电场的有效交互。由于其有效调制光相位的能力,EOPMs 在电信、激光系统和光信号处理等多种光学应用中至关重要。

相位调制器的关键特性

在评估相位调制器时,应考虑几个关键特性:

  • 相位调制深度: 决定可实现的调制指数和光学边带的相对功率分布。
  • 驱动电压要求: 实现所需相位调制所需的电压,通常与波克尔斯电池驱动器相关。
  • 调制带宽: 设备能够处理的调制频率范围。电光调制器可以达到许多千兆赫,而基于热效应或液晶材料的设备通常具有较低的带宽。
  • 光学带宽: 设备能够有效操作的光学波长范围。
  • 光圈大小: 设备光圈的大小,限制了调制光的光束半径。
  • 物理尺寸: 设备的外部尺寸,可能影响其在光学系统中的集成。

这些特性在不同类型的相位调制器中可能差异很大,使得某些类型更适合特定应用。

电光相位调制器 (EOPMs) 的优点

  • 高速调制: EOPMs 可以以非常高的速度运行,适合现代高速光通信系统。
  • 精确度: 提供对光相位的精确控制,这在需要高精度的应用中至关重要。
  • 宽带宽: EOPMs 可以在广泛的频率范围内调制光,这对各种光学应用有利。
  • 集成: 可以集成到光子电路中,实现紧凑高效的光学系统。
  • 低插入损耗: EOPMs 通常具有低插入损耗,这意味着它们不会显著衰减通过它们的光信号。

电光相位调制器 (EOPMs) 的缺点

  • 材料限制: EOPMs 的性能高度依赖于所用电光材料的特性。寻找具有最佳电光系数、低光学损耗和稳定性的材料仍然是一个挑战。
  • 制造复杂性: EOPMs 的制造,特别是涉及波导和电极结构的,可能复杂且成本高。
  • 温度敏感性: EOPMs 对温度变化可能敏感,这可能影响其性能和稳定性。
  • 电压要求: 通常需要高驱动电压以实现显著调制,这可能在某些应用中成为限制因素。
  • 体积: 大块 EOPMs 相较于其他类型的调制器可能相对较大,这在空间有限的应用中可能是一个缺点。

电光相位调制器的应用

EOPMs 是多功能设备,通过提供对光相位的精确控制,增强了光学系统在多个领域的性能和能力。

  • 电信:
    • 光纤通信: EOPMs 用于调制光纤通信系统中光的相位,实现高速数据传输。
    • 密集波长分复用 (DWDM): EOPMs 用于管理 DWDM 系统中的相位偏移,通过在单根光纤上打包多个信号来有效利用带宽。
  • 激光系统:
    • 激光脉冲整形: EOPMs 用于精确控制激光脉冲的相位,这在超快光谱学和化学反应的相干控制等应用中至关重要。
    • 频率稳定: EOPMs 通过控制发射光的相位来帮助稳定激光的频率。
  • 计量和传感:
    • 干涉测量: EOPMs 在干涉仪中用于调制光的相位,提高测量的精度和准确性。在引力波探测(例如 LIGO)和高分辨率成像等应用中至关重要。
    • 光学相干层析成像 (OCT): 在 OCT 系统中,EOPMs 用于调制参考臂光的相位,提高图像分辨率和对比度。
  • 量子光学:
    • 量子通信: EOPMs 用于将信息编码到光子的相位上,这对于量子密钥分发和其他量子通信协议至关重要。
    • 量子计算: 它们在操控量子态和在光子量子计算系统中实现量子门方面发挥作用。
  • 显微镜:
    • 相位对比显微镜: EOPMs 增强相位对比技术,提高生物和材料科学中透明样品的可见性。
    • 超分辨率显微镜: EOPMs 在先进成像技术中用于实现超越衍射极限的分辨率。
  • 光谱学:
    • 傅里叶变换红外光谱 (FTIR): EOPMs 在 FTIR 系统中调制光源的相位,这对于高分辨率光谱分析至关重要。
    • 相干拉曼光谱: 它们用于控制泵浦和探测光束的相位,提高拉曼测量的灵敏度和特异性。
  • 自适应光学:
    • 天文学: EOPMs 在自适应光学系统中用于校正大气湍流造成的波前畸变,提高天文观测的质量。
    • 成像系统: 它们帮助实时修正各种成像应用中的光学像差。
  • 军事和国防:
    • 激光雷达系统: EOPMs 用于激光雷达系统中的相位调制,提高距离分辨率和目标检测能力。
    • 安全通信: 它们用于安全光通信系统中,以加密和调制信号,实现安全数据传输。